Resinas para síntesis en fase sólida

Resina de amida Rink (0,3-0,6 meq/g, malla 100-200)

Resina de cloruro de 2-clorotritilo (1,0-1,8 meq/g, malla 100-200)

Memoria RAM TentaGel S

Resina de cloruro de 2-clorotritilo (1,0-2,0 meq/g, malla 100-200)

Resina de cloruro de 2-clorotritilo (1,0-1,2 meq/g, malla 200-400)

Resina de amida Rink

Resina de cloruro de 2-clorotritilo (0,3-0,8 meq/g, malla 200-400)

TentaGel XV RAM (0,15 - 0,35 mmol/g, 100 - 200 µm)

Resina de cloruro de 2-clorotritilo (0,4-0,8 mmol/g, malla 100-200)

Tentagel S HMBA (0,2 - 0,5 meq/g, malla 100 - 200)

Resina de hidrazina 2-clorotritilo (0,3 - 1,2 mmol/g, malla 100 - 200)

Resina de clorometilo macroporosa (1,2-2,0 mmol/g, malla 100-200)

Resina de alcohol 4-benciloxibencílico (1,4 - 1,6 mmol/g, malla 50 - 100)

TentaGel MB RAM (0,3 - 0,4 mmol/g, 140 - 170 µm)

TentaGel R TRT-Cl (0,12 - 0,22 mmol/g, 90 µm)

TentaGel HL _NH2 (0,4 - 0,6 mmol/g, 160 µm)

TentaGel RAP - Resina TentaGel para la síntesis de péptidos unidos a resina (0,2 - 0,3 mmol/g, 90 µm)

TentaGel MB _NH2 (0,15 - 0,3 mmol/g, 280 - 320 µm)

TentaGel XV _NH2 (0,18 - 0,4 mmol/g, 100 - 200 µm)

Resina de aminometil macroporosa (1,5-3,0 mmol/g, malla 200-400)

Resina de cloruro de 4-metoxitritilo (0,4 - 1,0 mmol/g, malla 200 - 400)

Resina de cloruro de 2-clorotritilo (1,2-1,6 mmol/g, malla 200-400)

Resina de hidrazina 2-clorotritilo (0,3 - 1,2 mmol/g, malla 200 - 400)

TentaGel S _NH2 0,2 - 0,8 meq/g, 130 µm)

Resina de poliestireno 9-Fmoc-aminoxanten-3-iloxi (0,6-0,8 meq/g, malla 100-200)

TentaGel MB HMBA (0,15 - 0,3 mmol/g, 200 - 250 µm)

TentaGel MB RAM (0,15 - 0,3 mmol/g, 200 - 250 µm)

TentaGel M OH (0,15 - 0,35 mmol/g, 30 µm), distribución estrecha del tamaño de partícula

TentaGel MB HMBA (0,15 - 0,3 mmol/g, 280 - 320 µm)

TentaGel MB RAM (0,15 - 0,3 mmol/g, 280 - 320 µm)

TentaGel S RAM (0,2 - 0,3 mmol/g, 90 µm)

TentaGel R HMBA (0,18 - 0,22 mmol/g, 90 µm)

TentaGel S Ramage (0,2 - 0,3 mmol/g, 90 µm)

Éster NHS TentaGel S (0,18 - 0,3 mmol/g, 90 µm)

TentaGel HL _NH2 (0,4 - 0,6 mmol/g, 75 µm)

TentaGel HL COOH (0,3 - 0,6 mmol/g, 75 µm)

TentaGel M NH ₂ (0,15 - 0,35 mmol/g, 20 µm), distribución estrecha del tamaño de partícula

TentaGel HL _NH2 (0,4 - 0,6 mmol/g, 110 µm)

Resina de cloruro de tritilo (0,4 - 1,0 mmol/g, malla 100 - 200)

Resina de cloruro de 2-clorotritilo (0,8-1,2 mmol/g, malla 100-200)

Resina de alcohol 4-benciloxibencílico (0,4 - 0,6 mmol/g, malla 50 - 100)

Resina de 4-hidroximetil-fenilacetamidometilo (0,8 - 1,2 mmol/g, malla 200 - 400)

Resina de 4-(2', 4'-dimetoxifenil-Fmoc-aminometil)-fenoximetilo (0,6 - 1,0 mmol/g, malla 200 - 400)

Resina de alcohol 4-benciloxibencílico (0,8 - 1,2 mmol/g, malla 100 - 200)

Resina de alcohol 4-benciloxibencílico (1,0 - 2,0 mmol/g, malla 100 - 200)

Resina de alcohol 4-benciloxibencílico (0,4-0,8 mmol/g, malla 100-200)

Resina de carbonato de tetraalquilamonio (2,5 - 3,5 mmol/g, malla 50 - 90)

Resina de carbonato de tetraalquilamonio (2,5 - 3,5 mmol/g, malla 18 - 50)

Resina de cloruro de sulfonilo

Resina HMPA-AM (0,6 - 1,2 mmol/g, malla 100 - 200)