Resinas para síntesis en fase sólida

Resina HMPA-AM (0,3 - 0,6 mmol/g, malla 200 - 400)

Resina de bromometilo (1,5-2,5 mmol/g, malla 200-400)

Resina HMPA-MBHA

Resina HMPA-MBHA

Resina HMPA-MBHA

Resina de cloruro de 4-benciloxibencilo (1,0-2,0 mmol/g, malla 100-200)

Resina Wang de carbonato de imidazol (0,5-1,5 mmol/g, malla 100-200)

Resina Wang de carbonato de 4-nitrofenilo

Resina Wang de carbonato de 4-nitrofenilo

Resina de bromuro de 4-benciloxibencilo (0,5-1,2 mmol/g, malla 100-200)

Resina Wang de carbonato de imidazol (0,5-1,5 mmol/g, malla 200-400)

Resina de bromuro de 4-benciloxibencilo (0,5-1,2 mmol/g, malla 200-400)

Resina de bromometilo (0,5-1,5 mmol/g, malla 200-400)

Resina de bromometilo (0,5-1,5 mmol/g, malla 200-400)

Resina de cloruro de 4-benciloxibencilo (0,5-1,0 mmol/g, malla 200-400)

Resina de bromuro de 4-benciloxibencilo (0,5-1,2 mmol/g, malla 200-400)

Resina de bromuro de 4-benciloxibencilo (0,5-1,2 mmol/g, malla 70-90)

Resina de bromometilo (0,5-1,5 mmol/g, malla 100-200)

Resina de bromuro de 4-benciloxibencilo (0,5-1,2 mmol/g, malla 100-200)

Resina de cloruro de 4-benciloxibencilo (0,5-1,0 mmol/g, malla 100-200)

Resina de bromuro de 4-benciloxibencilo (0,5-1,2 mmol/g, malla 70-90)

Resina de bromometilo (1,5-2,5 mmol/g, malla 100-200)

Resina de bromometilo (0,5-1,5 mmol/g, malla 100-200)

Resina de bromometilo (1,5-2,5 mmol/g, malla 100-200)

Resina de clorometilo macroporosa (1,2-2,0 mmol/g, malla 200-400)

Resina de clorometilo macroporosa (0,5-1,2 mmol/g, malla 200-400)

Resina de amida BHA de Rink

Poliestireno clorometilado (2,0-3,0 meq/g, malla 200-400)

Resina de alcohol 4-benciloxibencílico (0,4 - 1,0 mmol/g, malla 50 - 100)

Poliestireno clorometilado (2,0 - 4,5 meq/g, malla 200 - 400)

Resina de amida BHA de Rink

Clorhidrato de resina de 4-metilbencidrilamina (1,0 - 2,0 mmol/g, malla 100 - 200)

Resina de trifenilfosfina (0,9 - 1,6 meq/g, malla 200 - 400)

TentaGel S PHB (0,2 - 0,3 meq/g, 90 µm)

Tentagel S SH (0,2 - 0,3 meq/g, 130 µm)

Tentagel S -CH(OEt) ₂ 0,2 - 0,5 meq/g, 100 - 200 malla)

TentaGel S-Br (0,1 - 0,3 meq/g, perlas de 130 µm)

TentaGel S-OH (≥ 0,25 meq/g, perlas de 130 µm)

Poliestireno clorometilado (1,0-1,5 meq/g, malla 100-200)

Clorhidrato de resina de 4-metilbencidrilamina (0,3 - 0,8 mmol/g, malla 100 - 200)

Resina de alcohol 4-benciloxibencílico (0,5-1,0 meq/g, malla 100-200)

Resina HMBA AM (0,8 - 1,0 mmol/g, malla 200 - 400)

Resina de cloruro de 4-metoxitritilo (1 - 2 mmol/g, malla 200 - 400)

Resina de cloruro de 4-metiltritilo (0,2 - 1,5 meq/g, malla 200 - 400)

Poliestireno clorometilado (0,3 - 0,8 meq/g, malla 100 - 200)

Resina BHA de 4-(2',4'-dimetoxifenil-Fmoc-aminometil)fenoxiacetamido

Clorhidrato de resina de benzhidrilamina (0,6 - 0,9 meq/g, 100 - 200 mesh)

Resina de 4-hidroximetilbenzoilo MBHA (0,5 - 1,5 mmol/g, malla 100 - 200)

Resina de 4-hidroximetil-fenilacetamidometilo (0,5 - 1,2 mmol/g, malla 100 - 200)

Resina de oxima de 4-nitrobenzofenona (0,3 - 0,8 meq/g, malla 200 - 400)